TFT-LCD液晶显示模块的关键技术介绍

TFT-LCD液晶显示模块的关键技术。TFT-LCD液晶模块的关键技术很多，主要有以下几个大的方面：

一是提高开口率技术。开口率指TFT-LCD显示屏光透过部分和不透过部分之比，开口率越大，亮度越高。影响开口率的主要是栅和源总线宽度、TFT尺寸、上下基板对盒精度、存贮电容尺寸及黑矩阵尺寸等。为了提高开口率，采取的办法是：将黑白矩阵和彩膜都做在TFT基板上，此办法避免了对盒精度引起的开口率下降，但成品率不是很高，成本也会相应加大。

另外就是栅源总线，采用集成电路微加工技术。90年代TFT矩阵微加工约10μm，开口率为35%，微加工达到5μm时，开口率为80%。第三就是采用自对准光刻技术。主要是消除栅极和源漏极重迭形成的寄生电容。用自对准光刻技术，把栅电极作掩膜板，光刻n+a-Si和源漏电极，以减少栅源电极之间的重迭。最后是改善栅源材料。为了增加开口率，应尽量将总线宽度取小，但要考虑由于总线电阻过大，输入信号延迟，驱动不充分，从而降低对比度的问题。通常采用Cr或MoTa金属包Al的办法，这样就能得到低电阻总线。

二是扩大视角技术。液晶分子的各向异性，决定了液晶分子空间分布的不同，不同的立体角光透过率不同，这是造成显示对比度不均匀的重要原因。因此，扩大视角是液晶显示技术的关键课题之一。一般采取的技术措施有：补偿膜技术。在液晶显示屏上，贴光漫射膜和光强补偿膜，使通过液晶屏的光均匀漫射，并补偿某些角度的光强。另外就是采用多畴技术，在象元内划分两个以上不同液晶分子排列区域，形成多畴液晶分子取向，从而达到扩大视角的目的。扩大视角技术还有IPS、ASM等方法和措施。

三是简化TFT数组工艺。一般TFT数组工艺刻蚀次数为7～9次，工艺流程过长，影响产品合格率和生产能力。国外文献报导，已有4次套刻工艺，比常规的TFT数组工艺减少了一半。